Siconnex ist ein seit 2002 weltweit tätiger Anlagenhersteller aus Europa für Nasschemie-Anlagen in der Halbleiterindustrie und verwandten Industrien. Wir liefern BATCHSPRAY®-Anlagen für die Oberflächenbearbeitung verschiedenster Endprodukte wie MEMS, Leistungshalbleiter, Analog/Mixed Signal, III-V Halbleiter und viele mehr. Unsere Anlagen sind führend, wenn kleine Stellfläche, Sicherheit, Automatisierung, hoher Durchsatz und ein geringer Verbrauch von wirtschaftlichen Ressourcen wichtig sind.
Unsere innovative BATCHSPRAY® Technologie beruht auf einem geschlossenen System, in dem Reinigungs- und Ätzprozesse mit Chemikalien auf höchst effiziente Weise durchgeführt werden. Verschiedene chemische Vorgänge bis hin zum Spülen und Trocknen werden vollautomatisch in einer Prozesskammer abgewickelt. Diese Prozesskammer ist je nach Bedarf auf einen Carrier mit 25 Wafern oder zwei Carrier mit 50 Wafern ausgerichtet. Mit unseren Autoload-Anlagen können bis zu vier Kammern gleichzeitig beladen werden, um einen Durchsatz von bis zu 400 Wafern pro Stunde zu erreichen. Wichtige finanzielle Aspekte wie Stellfläche, Prozessmedien und Personalkosten werden gewinnbringend vermindert, die Sicherheit wird dagegen erheblich erhöht. Alle Anwendungen werden im hauseigenen Siconnex-Labor in Salzburg, Österreich, getestet.
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Branche
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Herstellung von Halbleitern
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Größe
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51–200 Beschäftigte
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Hauptsitz
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Siconnex Headquarter Austria, Hof bei Salzburg
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Art
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Kapitalgesellschaft (AG, GmbH, UG etc.)
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Gegründet
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2002
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Spezialgebiete
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Semiconductor BATCHSPRAY Processing Equipment, Etching (Metal, III-IV, Oxide, Sapphire, etc.), Resist Stripping (Solvent, Ozone and Acid based) und Cleaning (SC1, SC2, Ozone based, etc.)